ALICAT真空鍍膜系統(tǒng)內(nèi)凈化氣體和反應(yīng)氣體的輸入需要快速的響應(yīng)和精確的控制。艾里卡特質(zhì)量流量控制器和壓力控制器成功應(yīng)用

艾里卡特Alicat提供先進的質(zhì)量流量計、質(zhì)量流量控制器、壓力控制器、壓力傳感器解決方案。適用于真空沉積的快速EtherCAT MFC
真空鍍膜系統(tǒng)內(nèi)凈化氣體和反應(yīng)氣體的輸入需要快速的響應(yīng)和精確的控制。艾里卡特質(zhì)量流量控制器和壓力控制器具有快速的控制響應(yīng)速度和EtherCAT通訊模式。有了這種EtherCAT通訊模式，將不再需要EtherCAT轉(zhuǎn)換器，儀表也能更輕松地整合到工業(yè)PLC網(wǎng)絡(luò)中。

老化質(zhì)量流量控制器的插入式替代品
升級為艾里卡特質(zhì)量流量控制器非常簡單。我們的MCE系列產(chǎn)品滿足SEMI對連接長度的規(guī)范要求，它可通過插入方式與眾多其它生產(chǎn)商的舊版MFC兼容。艾里卡特MCV是舊版MFC的插入式替代品，配有集成式啟動截止閥。
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適用于CVD和ALD過程的防腐流量控制器
化學(xué)蒸汽沉積（CVD）和原子層沉積（ALD）過程所用腐蝕性氣態(tài)和液態(tài)前驅(qū)體需要不會隨時間推移而被腐蝕的質(zhì)量流量儀表。艾里卡特S系列（MC、MCES、MCVS）質(zhì)量流量控制器采用316L不銹鋼材質(zhì)的流量傳感器和FFKM彈性體，能夠忍受這些嚴酷的元素。
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適用于反應(yīng)濺射的快速氧氣流量控制
通過快速控制反應(yīng)氣體流量，確保薄膜涂層的均勻性。艾里卡特產(chǎn)品控制響應(yīng)時間僅50ms或更短，確保被引入您反應(yīng)濺射過程的反應(yīng)氣體保持一致且可重復(fù)。我們將根據(jù)您的預(yù)期過程條件設(shè)置每一臺流量控制器的PID調(diào)節(jié)功能，而且，如果您需要更改設(shè)置，您可在安裝后隨時更改這些設(shè)置。

真空沉積系統(tǒng)上游壓力控制
使用艾里卡特集成式真空控制器（IVC）代替下游節(jié)流閥和PID控制模塊，降低真空沉積系統(tǒng)成本。這種壓力控制器上游有控制閥門，且內(nèi)置電容薄膜真空傳感器，因而無需使用昂貴的外部真空計。
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